首页 > 动态 > 正文

图解功率器件IGBT工艺全流程 即时看

功率器件IGBT是Insulated Gate Bipolar Transistor的缩写。当然功率半导体元件除了IGBT之外,还有MOSFET、BIPOLAR等,这些都能用来作为半导体开关,今天单说IGBT的工艺流程。

功率器件IGBT工艺流程


(资料图)

1.基板

2.B+注入

使用离子注入设备

3.绝缘膜形成

通过CVD形成掩膜

4.掩膜用绝缘膜

加工

通过刻蚀和去胶处理绝缘膜

5.P+注入

使用离子注入设备

6.形成沟槽

通过刻蚀形成沟槽

7.形成绝缘膜

通过CVD形成绝缘膜

8.绝缘膜加工

通过刻蚀和去胶处理绝缘膜

9.形成Emitter

电极

通过溅射或蒸镀形成电极

10.形成P+FS层

通过离子注入设备形成

P+FS层

11.形成B+

(Collector)

通过离子注入设备形成B+(Collector)

12.形成

Collector

通过溅射或蒸镀形成Collector

版权声明

*免责声明:以上内容来自芯片制造,除原创作品,本平台所使用的文章、图片等相关内容,属原权利人所有。不代表集成电路 IC的观点和立场,仅供学习交流之用,若有侵权请及时联系管理员(微信15055361565)删除,谢谢!

关键词:


您可能也喜欢这些文章

Copyright   2015-2022 华中音箱网 版权所有  备案号:京ICP备12018864号-26   联系邮箱:2 913 236 @qq.com